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Nature 子刊重磅:全球首款单片集成锡铅钙钛矿近红外成像芯片问世,性能比肩商用 InGaAs

乐鱼leyu体育官网 | 博客见解

October 14, 2022

  (来源:计算机视觉研究院)

  计算机视觉研究院

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  https://pmc.ncbi.nlm.nih.gov/articles/PMC12815914/pdf/41377_2025_Article_2127.pdf

  计算机视觉研究院专栏

  Column of Computer Vision Institute

  本文首次实现了锡铅钙钛矿与 CMOS 读出电路单片集成的 640×512 分辨率近红外成像芯片。团队通过创新的 Sn (SCN)₂无机分子表面钝化策略,一举解决了锡铅钙钛矿 Sn²⁺易氧化、暗电流高的行业痛点,器件峰值探测率达到 1.6×10¹³ Jones,比肩商用 InGaAs 光电二极管,为低成本、高性能近红外成像开辟了全新路径。

  PART/1

  行业痛点   

   近红外探测是安防安检、物质识别、机器视觉、自动驾驶等领域的核心技术。传统 InGaAs 探测器依赖昂贵的 III-V 族半导体工艺,成本居高不下;而新兴的有机半导体、量子点探测器在近红外波段外量子效率普遍低于 60%,难以满足高性能成像需求。

  锡铅混合钙钛矿凭借带隙可调、吸收系数高、可低温溶液加工的优势,被视为近红外探测的理想材料,吸收截止边可延伸至 1000nm。但长期以来,Sn²⁺极易氧化为 Sn⁴⁺,产生大量锡空位与非预期 p 型掺杂,导致器件暗电流飙升、探测率低下,始终无法落地实用化成像芯片。更棘手的是,钙钛矿上界面缺陷密度比体相高出三个数量级,成为制约性能的核心瓶颈。

  PART/2

  创新   

  针对这一难题,团队跳出传统 “前驱体掺杂” 的思路,提出了全新的无机分子表面钝化方案 —— 采用 Sn (SCN)₂对锡铅钙钛矿薄膜上界面进行后处理,精准解决表面氧化与缺陷问题。

【材料特性与 Sn (SCN)₂作用机制图,包含分子静电势分布、表面吸附能结构、Sn 3d XPS 能谱对比】

  理论计算与实验表征共同验证了该机制的三重作用:

  :Sn (SCN)₂中的 Sn²⁺可通过配位键精准填补钙钛矿表面的锡空位,吸附能达 - 1.25eV,有效钝化表面缺陷态;

  :分子晶体的空间位阻效应阻碍了 Sn⁴⁺氧化产物生成,表面 Sn⁴⁺占比从 34.71% 大幅降至 13.01%;

  :表面费米能级抬升,近表面电子浓度提升近 7 倍,大幅削弱了 p 型自掺杂效应。

  【钝化前后钙钛矿薄膜形貌与缺陷表征图,包含 SEM 形貌、AFM 粗糙度、KPFM 表面电位、PL/TRPL 寿命、DLCP 缺陷深度分布】

  钝化后的薄膜晶粒边界空隙被有效填充,表面粗糙度从 51.7nm 降至 42.8nm,表面电位分布更均匀;载流子寿命从 125ns 提升至 461ns,上界面缺陷密度直降两个数量级,非辐射复合被显著抑制。

  PART/3

  器件性能   

  器件性能:暗电流降 6 倍,探测率追平商用 InGaAs

  基于该钝化策略,团队制备了结构为 ITO/PEDOT:PSS / 锡铅钙钛矿 / C₆₀/BCP/Ag 的光电探测器,核心性能实现全面跃升:

【锡铅钙钛矿光电探测器性能汇总图,包含 J-V 曲线、LDR、瞬态响应、带宽、EQE、响应度、噪声电流、探测率对比】
  • 暗电流密度

      :-0.1V 偏压下仅 10 nA/cm²,较对照组降低约 6 倍;

  • 比探测率

      :峰值达 1.6×10¹³ Jones,是对照组的 13 倍,与商用 InGaAs 光电二极管处于同一水平;

  • 外量子效率

      :940nm 处达到 76%,对应响应度 0.58 A/W;

  • 响应速度

      :上升 / 下降时间仅 0.48μs/0.34μs,-3dB 带宽达 97.2kHz,可稳定支持 30 帧 / 秒的常规成像;

  • 线性动态范围

      :自供电模式下达 147dB,媲美商用硅光电二极管。

  同时器件稳定性显著提升:未封装器件在空气中连续工作超 1300 秒,光电流无明显衰减;65℃氮气存储后暗电流仅翻倍,远优于对照组 15 倍的涨幅。

  值得注意的是,团队特意对比了 “前驱体掺杂” 与 “表面钝化” 两种方案:前者虽也能降低暗电流,但会阻碍载流子传输导致 EQE 下降;而表面钝化策略实现了暗电流抑制与高量子效率的兼得,这也是成像芯片得以成功制备的关键。

  PART/4

  全球首款   

  全球首款:640×512 近红外成像芯片落地

  在单器件性能突破的基础上,团队将锡铅钙钛矿光电二极管直接逐层制备在 CMOS 读出电路上,实现了全球首款单片集成的锡铅钙钛矿近红外成像芯片

  【锡铅钙钛矿成像芯片结构、实物与成像性能图,包含芯片结构示意图、成像系统、芯片实物、像素均匀性、坏点统计、分辨率测试、动态范围测试、液体识别成像】

  这款成像芯片核心参数达到商用级水准:

  •   像素阵列 640×512,像素间距 15μm;

  •   光响应非均匀性(PRNU)仅 3%,坏点率 0.01%,热点率 0.24%;

  •   空间分辨率 MTF50 达 206.5 LW/PH,成像效果对标商用 InGaAs 成像芯片;

  •   动态范围 58.2dB,可清晰分辨 36 级灰阶。

  在应用演示中,团队利用该芯片实现了透明液体的精准识别:水、四氯乙烯、乙醇在可见光下均为无色透明,肉眼难以区分;但在 940nm 近红外成像下,三者灰度差异显著,可被快速辨别。这一能力展现了其在化学传感、生物医学成像、工业检测等场景的巨大应用潜力。

  这项工作首次验证了锡铅钙钛矿与 CMOS 电路单片集成的可行性,打破了近红外成像芯片对昂贵 III-V 族半导体的依赖,为低成本、大面积近红外成像技术提供了全新的技术路线。随着材料稳定性与工艺的进一步优化,钙钛矿近红外成像芯片有望在消费电子、智能驾驶、安防检测等领域实现规模化应用。

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